HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結構設計，可提高鍍膜質量。
技術參數
特點  ?
| - 采用高質量的不銹鋼和陶瓷材料制作
- 采用電磁場的有元計算法來設計永磁體，以得到較高的磁場強度和均強場分布
- 磁體表面涂有一層保護層，以防止冷卻水的腐蝕，延長其使用壽命
- 標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配
- 安裝是采用標準真空接頭，便于操作
- 更換靶材較為簡單，無需調整濺射頭的高度
- 配有一塊銅靶
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濺射頭 
（點擊圖片查看詳細資料） | - 濺射頭的直徑:46.3mm
- 所用靶的直徑:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
- 靶材的zui大厚度: 1/8" (3mm)
- 磁環:NdFeB稀土永磁鐵
- 桿的直徑: 3/4" O.D.
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所需功率 | DC (zui大) 250 W RF （zui大）100 W |
zui大陰極濺射電流 | 3A |
陰極濺射電流 | 200 - 1,000 V |
可選壓力范圍 | ~1 mTorr 至1 Torr |
濺射厚度均勻性圖 |  - 注意：此圖是采用磁控濺射得的到一個200nm的薄膜，所用靶材為1英寸的銅靶。薄膜是沉積在氧化的硅片上，實驗參數為：
- 功率：直流150W
- 真空環境：10mTorr(Ar)
- 靶材與基片的距離：75mm
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水冷卻 
| - 所需水流量： 1/2 GPM
- 進水溫度：<20 C
- 水管接頭：0.25" O.D快插頭
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接頭 | - 電路連接接頭：標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配
- 本公司會贈送一高真空快速接頭
- 此快速接頭的內徑為0.75"，可將濺射頭安裝在真空腔體上，真空腔體上的安裝孔直徑為1英寸，真空腔體的壁厚不得大于1英寸
  
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產品長度 | 14英寸（355.6mm) |
產品重量 | 1.36kg |
傾斜裝置 | - 濺射頭相對于桿zui大可傾斜+/- 45度
- 傾斜裝置上有刻度線，可觀察到靶頭傾斜的角度
  
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可選配件 | - 循環水冷機，流量為16L / min ，水箱容積為6L
- 本公司可提供各種配件可與HVMSS-SPC-1-LD配套，讓客戶自己搭建磁控濺射儀
   
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質保期 | 一年質保期終生維護 |
應用 | - 在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜，下面是一些應用：
- 薄膜涂覆
- 半導體器件
- 磁記錄介質
- 超導薄膜
- 量子計算器件
- MEMS
- 生物傳感器
- 納米技術
- 超晶格
- 顆粒膜
- 記憶合金
- 組合薄膜沉積
- 光學薄膜
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