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OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統組成。可與準分子激光器配合,進行脈沖激光蒸發鍍膜,而且靶材濺射腔體內可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發。此款設備特別適合制作多元化合物薄膜。
技術參數
產品特點  | 
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加熱爐(對基片加熱)  | 
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腔體  | 
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真空度  | 
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窗口 
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壓力控制系統![]()  | 
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混氣系統  | 
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等離子射頻電源(可選購)  | 
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質保期  | 一年質保期,終生維護(不包括密封圈、石英腔體和加熱元件)  | 
儀器尺寸  | 1300mm*1260mm*820mm  | 
質量認證  | 
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